Personen - Details

  1. Hochschule Kempten
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  4. EPT – Institut für Effiziente Produktionstechnik

Prof. Dr. Michael Layh

Funktionen

  • Fakultät Maschinenbau / Professor/-in /
  • Institut für Maschinelles Sehen / Institutsleitung /
  • Fakultät Maschinenbau / Laborleiter/-in / Labor Optische 3D-Messtechnik und Computer Vision (3D visionlab)

Lehrgebiet

Physik, Mathematik und Optik

Links:

  • 3Dvisionlab - Labor für Optische 3D-Messtechnik und Computer Vision

Lehrgebiete:

  • Physik
  • Ingenieurmathematik
  • Optische Messtechnik
  • Technische Optik

Fachgebiete/Interessen:

  • Maschinelles Sehen
  • Optikdesign und optische Systemanalyse
  • Simulation und Modellierung

Forschung und Entwicklung

Laufende Forschungsprojekte:

  • ChromaCAM (10/2022 - 03/2024) gefördert durch Bayern Innovativ
  • Q-Process (06/2022 - 05/2024) gefördert durch die Bayrische Forschungsstiftung

Abgeschlossene Forschungsprojekte:

Forschungprojekte im Forschungsnetzwerk „Effiziente Produktionstechnik – EffPro“gefördert durch den Europäischen Fond für regionale Entwicklung der Europäischen Union sowie durch das EFRE-Bayern (Laufzeit bis 12/2021):

  • Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen mit optischer Mess- und Bildverarbeitungstechnik zur Qualitätssicherung und Ressourcenoptimierung
  • Bauteilmarkierung im Eisensandgussverfahren
  • Miniaturisierung von optischen 3D-Messtechniken mit Hilfe von 3D gedruckten Mikrolinsen für das Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen

Publikationen

  • Prause, K., Herkommer, A. M., Layh, M. (2023). Toward areal chromatic confocal metrology. Optical Engineering, 62(3), 034101.https://doi.org/10.1117/1.OE.62.3.034101

  • Beck, M., Layh, M., Nebauer, M., & Pinzer, B. R. (2022). A novel tracking system for the iron foundry field based on deep convolutional neural networks. Journal of Intelligent Manufacturing, 33(7), 2119–2128.https://doi.org/10.1007/s10845-022-01970-9

  • Korbinian Prause, Alois Herkommer, Bernd R. Pinzer, Michael Layh, "Single-shot high speed aerial chromatic confocal metrology sensor," Opt. Eng.60(12), 124110 (2021), doi: 10.1117/1.OE.60.12.124110  
  • Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer: Optical inline monitoring of the burnish surface in the punching process. Int J Adv Manuf Technol (2021),  https://doi.org/10.1007/s00170-021-07922-6  
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois M. Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Highly miniaturized endoscopic spatial confocal point distance sensor. Opt. Eng. 59(3) 035102 (17 March 2020),https://doi.org/10.1117/1.OE.59.3.035102  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: CastCode - Gussteilrückverfolgbarkeit an automatischen Formanlagen. GIESSEREI SPECIAL, 01/2020.
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Concept for a highly miniaturized endoscopic point distance sensor. Proc. SPIE 11056, Optical Measurement Systems for Industrial Inspection XI, 110560M (21 June 2019),https://doi.org/10.1117/12.2525573  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: Forschungsgebiet "Prozessmonitoring" an der Hochschule für angewandte Wissenschaften Kempten. GIESSEREI, 08/2019.
  • R. Schleser, T. Ihn, E. Ruh, K. Ensslin, Michael Tews, D. Pfannkuche, D.C. Driscoll, A.C. Gossard: Cotunneling-Mediated Transport through Excited States in the Coulomb-Blockade Regime. PRL 94, 206805 (2005)
  • Michael Tews: Electronic structure and transport properties of quantum dots. Annalen der Physik, Vol. 13, Issue 5, Pages 249-304 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, B. Wunsch, Michael Tews, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Inelastic Light Scattering on Few-Electron Quantum-Dot Atoms. Physica E Vol. 22, Pages 478-481 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, Michael Tews, B. Wunsch, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Spectroscopy of Few-Electron Collective Excitations in Charge-Tunable Artifical Atoms. PRL 91, 257401 (2003)
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Mapping of few-electron wave-functions in semiconductor nanocrystals - evidence of  exchange interaction. Proceedings of 26th International Conference on the Physics of Semiconductors, Edinburgh, 2002
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Stark effect in colloidal indium arsenide nanocrystal quantum dots: Consequences for wave-function mapping experiments. PRB 65, 073307 (2001)
  • Michael Tews and W. F. Perger: Standalone Relativistic Continuum Wavefunction Solver. CPC 141, No. 1, Pages 205-216 (2001)

Patente und Erfindungen

  • Patentanmeldung DE102020200214A1,WO2021140052A1: Konfokale Messvorrichtung zur 3D-Vermessung einer Objektoberfläche. Angemeldet am 9. Januar 2020, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Korbinian Prause, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102018216458A1,EP3857211A1,WO2020064856A1: Verfahren zur Oberflächenaufahme eines rotierenden Körpers. Angemeldet am 25. September 2019, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Maximilian Rehm, Michael Beck, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer, Christian Vogelei
  • Patentanmeldung EP3655175A1,US2021086250A1,WO2019015887A1: Method for operating a processing installation with a moveable punch. Angemeldet am 18. Juli 2017, Anmelder: Christian Donhauser, Erfinder: Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Michael Layh, Christian Donhauser, Bernd Pinzer
  • Patentanmeldung  DE102016203754A1: Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Angemeldet am 8. März 2016, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH , Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Hans-Jürgen Mann, Toralf Gruner, Martin Endres, Jens Timo Neumann
  • Patentanmeldung US2014240686A1, US9658533B2: Arrangement of a mirror. Angemeldet am 15. November 2011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH  , Erfinder: Johannes Ruoff, Heiko Feldmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2012242968A1, US9176390B2: METHOD FOR ADJUSTING AN ILLUMINATION SYSTEM OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY. Angemeldet am 22. März 20011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther
  • Patentanmeldung WO2012076335A1: METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM. Angemeldet am 9. Dezember 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Thomas Korb, Christian Hettich, Michael Layh, Ulrich Wegmann, Karl-Heinz Schuster, Matthias Manger
  • Patentanmeldung US2013176546A1: Illumination optical unit with a movable filter element. Angemeldet am 23. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung WO2012028303A1: OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 01. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hans-Jürgen Mann, Ulrich Löring, Michael Layh, Johannes Ruoff
  • Patentanmeldung US2012050703A1, US9007559B2: EUV COLLECTOR. Angemeldet am 31.08.2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: , Michael Layh, Udo Dinger
  • Patentanmeldung WO2011157601A2, WO2011157601A3: ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE. Angemeldet am 15. Juni 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh,
  • Patentanmeldung US10114293B2, US2013038850A1: ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS. Angemeldet am 22. Februar 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Heike Feldmann, Erik Sohmen, Joachim Stühler, Oswald Gromer, Ulrich Müller, Michael Layh, Markus Schwab
  • Patentanmeldung DE102009045491A1: Beleuchungsoptik. Angemeldet am 8. Oktober 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle
  • Patentanmeldung US2012153189A1: OPTICAL SYSTEM FOR GENERATING A LIGHT BEAM FOR TREATING A SUBSTRATE. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Johannes Wangler, Michael Layh, Markus Zenzinger, Holger Münz
  • Patentanmeldung DE102009037113A1: Verfahren und Vorrichtung zum Unterdrücken von Interferenzerscheinungen und Vorrichtung zum flächigen Aufschmelzen von Schichten. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hubert Holderer,Torsten Steinbruck, Michael Layh, Johannes Wangler, Holger Münz
  • Patentanmeldung WO2010149436A1: ILLUMINATION OPTICAL UNIT WITH A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT COMPRISING A MEASURING DEVICE. Angemeldet am 23. Juni 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Frank Melzer, Adrian Staicu, Jürgen Baier, Bernd Warm, Markus Knüfermann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2011177463A1,US9304400B2: ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 30. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle, Damina Fiolka, Martin Endres, Hogler Weigand  
  • Patentanmeldung DE102009025656A1: Projektionsoptik zur Verwendung in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Blende. Angemeldet am 17. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Martin Endres, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102009025655A1: Optische Komponente zum Einsatz in einem Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie. Angemeldet am 27. August 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hogler Weigand, Michael Layh, Martin Endres, Ralf Stützle, Christian Laubis, Sebastian Dörn, Michael Ricker 
  • Patentanmeldung DE102008035320A1, US2011102758A1, US8537335B2, DE102008023763A1: Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Beleuchtungssystem sowie Fourieroptiksystem. Angemeldet am 25. Juli 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh, Markus Degünther, Artur Högele
  • Patentanmeldung US2011096317A1, US9310692B2: COMPONENT FOR SETTING A SCAN-INTEGRATED ILLUMINATION ENERGY IN AN OBJECT PLANE OF A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 5. Mai 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Ralf Stützle, Martin Endres, Jens Ossmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009080279A1: MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Michael Patra, Johannes Wangler,Manfred Maul, Damian Fiolka, Gundula Weiss   
  • Patentanmeldung WO2009080231A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Erich Schubert, Alexander Kohl, Gerhard Ziegler, Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102007055443A1, DE102007055443B4: Stabmischsystem und Verfahren hierzu zur pupillenerhaltenden Feldhomogenisierung in einem Beleichtungssystem. Angemeldet am 20. November 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009026947A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 30. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102008040742A1: Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung. Angemeldet am 2. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Patra, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung US2014233006A1, US9019475B2, CN101636696A, CN101636696B: METHOD AND DEVICE FOR MONITORING MULTIPLE MIRROR ARRAYS IN AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 6. Februar 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Stefan Xalter, Patrin Kwan Yim-Bun, Manfred Maul, Johannes Eisenmenger, Jan Horn, Markus Degünther, Florian Bach, Michael Patra, Damian Fiolka, Andreas Major, Johannes Wangler, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2008061681A2, WO2008061681A3, DE102007055408A1: Beleuchtungsoptik für die Projektions-Mikrolithografie sowie Mess- und Überwachungsverfahren für eine derartige Beleuchtungsoptik. Angemeldet am 21. November 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul
  • Patentanmeldung DE102006042452A1: Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2007093433A1, CN101421674A, CN101421674B: BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM DERARTIGEN BELEUCHTUNGSSYSTEM. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh, Michael Gerhard, Bruno Thome, Wolfgang Singer
  • Patentanmeldung US2011083542A1, US8520307B2: OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Oliver Wolf, Heiko Siekmann, Eva Kachbrenner, Siegfried Rennon, Johannes Wangler, Andre Bresan, Michael Gerhard, Nils Haverkamp, Axel Scholz, Ralf Scharnweber, Michael Layh, Stefan Burkart

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