Team

  1. Hochschule Kempten
  2. Forschung
  3. Forschungsinstitute
  4. EffProTec – Institut für Effiziente Produktionstechnologie
  5. Team

Das Team des EffProTec

Unser Team ist vor allem durch seine Vielseitigkeit gekennzeichnet. Die einzigartige Mixtur der verschiedensten Schwerpunkte unserer Professoren und wissenschaftlichen Mitarbeitenden macht es aus. Dadurch entstehen neue Lösungsansätze und Verbundtechnologien, die Ihren Prozess verbessern.

#

Layh, Michael

Prof. Dr. rer. nat.

Fakultät Maschinenbau

Funktionen:

  • Fakultät Maschinenbau / Professor/-in /

Lehrgebiet:
Ingenieurmathematik, Physik; Optik

Links:

  • 3Dvisionlab - Labor für Optische 3D-Messtechnik und Computer Vision

Lehrgebiete:

  • Physik
  • Ingenieurmathematik
  • Optische Messtechnik
  • Technische Optik

Fachgebiete/Interessen:

  • Optikdesign und optische Systemanalyse
  • Auslegung und physikalische Modellierung von Mikrooptiken
  • Simulation und Modellierung
  • Numerik

Forschung und Entwicklung

Forschungprojekte im Forschungsnetzwerk „Effiziente Produktionstechnik – EffPro“gefördert durch den Europäischen Fond für regionale Entwicklung der Europäischen Union sowie durch das EFRE-Bayern (Laufzeit bis 12/2021):

  • Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen mit optischer Mess- und Bildverarbeitungstechnik zur Qualitätssicherung und Ressourcenoptimierung
  • Bauteilmarkierung im Eisensandgussverfahren
  • Miniaturisierung von optischen 3D-Messtechniken mit Hilfe von 3D gedruckten Mikrolinsen für das Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen

Publikationen

  • Korbinian Prause, Alois Herkommer, Bernd R. Pinzer, Michael Layh, "Single-shot high speed aerial chromatic confocal metrology sensor," Opt. Eng.60(12), 124110 (2021), doi: 10.1117/1.OE.60.12.124110 .
  • Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer: Optical inline monitoring of the burnish surface in the punching process. Int J Adv Manuf Technol (2021),  https://doi.org/10.1007/s00170-021-07922-6  
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois M. Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Highly miniaturized endoscopic spatial confocal point distance sensor. Opt. Eng. 59(3) 035102 (17 March 2020),https://doi.org/10.1117/1.OE.59.3.035102  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: CastCode - Gussteilrückverfolgbarkeit an automatischen Formanlagen. GIESSEREI SPECIAL, 01/2020.
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Concept for a highly miniaturized endoscopic point distance sensor. Proc. SPIE 11056, Optical Measurement Systems for Industrial Inspection XI, 110560M (21 June 2019),https://doi.org/10.1117/12.2525573  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: Forschungsgebiet "Prozessmonitoring" an der Hochschule für angewandte Wissenschaften Kempten. GIESSEREI, 08/2019.
  • R. Schleser, T. Ihn, E. Ruh, K. Ensslin, Michael Tews, D. Pfannkuche, D.C. Driscoll, A.C. Gossard: Cotunneling-Mediated Transport through Excited States in the Coulomb-Blockade Regime. PRL 94, 206805 (2005)
  • Michael Tews: Electronic structure and transport properties of quantum dots. Annalen der Physik, Vol. 13, Issue 5, Pages 249-304 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, B. Wunsch, Michael Tews, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Inelastic Light Scattering on Few-Electron Quantum-Dot Atoms. Physica E Vol. 22, Pages 478-481 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, Michael Tews, B. Wunsch, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Spectroscopy of Few-Electron Collective Excitations in Charge-Tunable Artifical Atoms. PRL 91, 257401 (2003)
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Mapping of few-electron wave-functions in semiconductor nanocrystals - evidence of  exchange interaction. Proceedings of 26th International Conference on the Physics of Semiconductors, Edinburgh, 2002
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Stark effect in colloidal indium arsenide nanocrystal quantum dots: Consequences for wave-function mapping experiments. PRB 65, 073307 (2001)
  • Michael Tews and W. F. Perger: Standalone Relativistic Continuum Wavefunction Solver. CPC 141, No. 1, Pages 205-216 (2001)

Patente und Erfindungen

  • Patentanmeldung DE102020200214A1,WO2021140052A1: Konfokale Messvorrichtung zur 3D-Vermessung einer Objektoberfläche. Angemeldet am 9. Januar 2020, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Korbinian Prause, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102018216458A1,EP3857211A1,WO2020064856A1: Verfahren zur Oberflächenaufahme eines rotierenden Körpers. Angemeldet am 25. September 2019, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Maximilian Rehm, Michael Beck, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer, Christian Vogelei
  • Patentanmeldung EP3655175A1,US2021086250A1,WO2019015887A1: Method for operating a processing installation with a moveable punch. Angemeldet am 18. Juli 2017, Anmelder: Christian Donhauser, Erfinder: Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Michael Layh, Christian Donhauser, Bernd Pinzer
  • Patentanmeldung  DE102016203754A1: Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Angemeldet am 8. März 2016, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH , Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Hans-Jürgen Mann, Toralf Gruner, Martin Endres, Jens Timo Neumann
  • Patentanmeldung US2014240686A1, US9658533B2: Arrangement of a mirror. Angemeldet am 15. November 2011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH  , Erfinder: Johannes Ruoff, Heiko Feldmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2012242968A1, US9176390B2: METHOD FOR ADJUSTING AN ILLUMINATION SYSTEM OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY. Angemeldet am 22. März 20011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther
  • Patentanmeldung WO2012076335A1: METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM. Angemeldet am 9. Dezember 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Thomas Korb, Christian Hettich, Michael Layh, Ulrich Wegmann, Karl-Heinz Schuster, Matthias Manger
  • Patentanmeldung US2013176546A1: Illumination optical unit with a movable filter element. Angemeldet am 23. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung WO2012028303A1: OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 01. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hans-Jürgen Mann, Ulrich Löring, Michael Layh, Johannes Ruoff
  • Patentanmeldung US2012050703A1, US9007559B2: EUV COLLECTOR. Angemeldet am 31.08.2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: , Michael Layh, Udo Dinger
  • Patentanmeldung WO2011157601A2, WO2011157601A3: ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE. Angemeldet am 15. Juni 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh,
  • Patentanmeldung US10114293B2, US2013038850A1: ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS. Angemeldet am 22. Februar 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Heike Feldmann, Erik Sohmen, Joachim Stühler, Oswald Gromer, Ulrich Müller, Michael Layh, Markus Schwab
  • Patentanmeldung DE102009045491A1: Beleuchungsoptik. Angemeldet am 8. Oktober 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle
  • Patentanmeldung US2012153189A1: OPTICAL SYSTEM FOR GENERATING A LIGHT BEAM FOR TREATING A SUBSTRATE. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Johannes Wangler, Michael Layh, Markus Zenzinger, Holger Münz
  • Patentanmeldung DE102009037113A1: Verfahren und Vorrichtung zum Unterdrücken von Interferenzerscheinungen und Vorrichtung zum flächigen Aufschmelzen von Schichten. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hubert Holderer,Torsten Steinbruck, Michael Layh, Johannes Wangler, Holger Münz
  • Patentanmeldung WO2010149436A1: ILLUMINATION OPTICAL UNIT WITH A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT COMPRISING A MEASURING DEVICE. Angemeldet am 23. Juni 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Frank Melzer, Adrian Staicu, Jürgen Baier, Bernd Warm, Markus Knüfermann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2011177463A1,US9304400B2: ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 30. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle, Damina Fiolka, Martin Endres, Hogler Weigand  
  • Patentanmeldung DE102009025656A1: Projektionsoptik zur Verwendung in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Blende. Angemeldet am 17. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Martin Endres, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102009025655A1: Optische Komponente zum Einsatz in einem Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie. Angemeldet am 27. August 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hogler Weigand, Michael Layh, Martin Endres, Ralf Stützle, Christian Laubis, Sebastian Dörn, Michael Ricker 
  • Patentanmeldung DE102008035320A1, US2011102758A1, US8537335B2, DE102008023763A1: Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Beleuchtungssystem sowie Fourieroptiksystem. Angemeldet am 25. Juli 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh, Markus Degünther, Artur Högele
  • Patentanmeldung US2011096317A1, US9310692B2: COMPONENT FOR SETTING A SCAN-INTEGRATED ILLUMINATION ENERGY IN AN OBJECT PLANE OF A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 5. Mai 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Ralf Stützle, Martin Endres, Jens Ossmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009080279A1: MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Michael Patra, Johannes Wangler,Manfred Maul, Damian Fiolka, Gundula Weiss   
  • Patentanmeldung WO2009080231A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Erich Schubert, Alexander Kohl, Gerhard Ziegler, Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102007055443A1, DE102007055443B4: Stabmischsystem und Verfahren hierzu zur pupillenerhaltenden Feldhomogenisierung in einem Beleichtungssystem. Angemeldet am 20. November 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009026947A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 30. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102008040742A1: Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung. Angemeldet am 2. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Patra, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung US2014233006A1, US9019475B2, CN101636696A, CN101636696B: METHOD AND DEVICE FOR MONITORING MULTIPLE MIRROR ARRAYS IN AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 6. Februar 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Stefan Xalter, Patrin Kwan Yim-Bun, Manfred Maul, Johannes Eisenmenger, Jan Horn, Markus Degünther, Florian Bach, Michael Patra, Damian Fiolka, Andreas Major, Johannes Wangler, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2008061681A2, WO2008061681A3, DE102007055408A1: Beleuchtungsoptik für die Projektions-Mikrolithografie sowie Mess- und Überwachungsverfahren für eine derartige Beleuchtungsoptik. Angemeldet am 21. November 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul
  • Patentanmeldung DE102006042452A1: Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2007093433A1, CN101421674A, CN101421674B: BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM DERARTIGEN BELEUCHTUNGSSYSTEM. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh, Michael Gerhard, Bruno Thome, Wolfgang Singer
  • Patentanmeldung US2011083542A1, US8520307B2: OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Oliver Wolf, Heiko Siekmann, Eva Kachbrenner, Siegfried Rennon, Johannes Wangler, Andre Bresan, Michael Gerhard, Nils Haverkamp, Axel Scholz, Ralf Scharnweber, Michael Layh, Stefan Burkart

Zurück

Wissenschaftliche Mitarbeiter

#

Layh, Michael

Prof. Dr. rer. nat.

Fakultät Maschinenbau

Funktionen:

  • Fakultät Maschinenbau / Professor/-in /

Lehrgebiet:
Ingenieurmathematik, Physik; Optik

Links:

  • 3Dvisionlab - Labor für Optische 3D-Messtechnik und Computer Vision

Lehrgebiete:

  • Physik
  • Ingenieurmathematik
  • Optische Messtechnik
  • Technische Optik

Fachgebiete/Interessen:

  • Optikdesign und optische Systemanalyse
  • Auslegung und physikalische Modellierung von Mikrooptiken
  • Simulation und Modellierung
  • Numerik

Forschung und Entwicklung

Forschungprojekte im Forschungsnetzwerk „Effiziente Produktionstechnik – EffPro“gefördert durch den Europäischen Fond für regionale Entwicklung der Europäischen Union sowie durch das EFRE-Bayern (Laufzeit bis 12/2021):

  • Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen mit optischer Mess- und Bildverarbeitungstechnik zur Qualitätssicherung und Ressourcenoptimierung
  • Bauteilmarkierung im Eisensandgussverfahren
  • Miniaturisierung von optischen 3D-Messtechniken mit Hilfe von 3D gedruckten Mikrolinsen für das Inline-Monitoring von Fertigungsprozessen

Publikationen

  • Korbinian Prause, Alois Herkommer, Bernd R. Pinzer, Michael Layh, "Single-shot high speed aerial chromatic confocal metrology sensor," Opt. Eng.60(12), 124110 (2021), doi: 10.1117/1.OE.60.12.124110 .
  • Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer: Optical inline monitoring of the burnish surface in the punching process. Int J Adv Manuf Technol (2021),  https://doi.org/10.1007/s00170-021-07922-6  
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois M. Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Highly miniaturized endoscopic spatial confocal point distance sensor. Opt. Eng. 59(3) 035102 (17 March 2020),https://doi.org/10.1117/1.OE.59.3.035102  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: CastCode - Gussteilrückverfolgbarkeit an automatischen Formanlagen. GIESSEREI SPECIAL, 01/2020.
  • Korbinian Prause, Simon Thiele, Alois Herkommer, Harald Giessen, Bernd Pinzer, Michael Layh: Concept for a highly miniaturized endoscopic point distance sensor. Proc. SPIE 11056, Optical Measurement Systems for Industrial Inspection XI, 110560M (21 June 2019),https://doi.org/10.1117/12.2525573  
  • Marvin Sandt, Michael Beck, Fabian Linkerhägner, Dierk Hartman, Michael Layh, Bernd Pinzer: Forschungsgebiet "Prozessmonitoring" an der Hochschule für angewandte Wissenschaften Kempten. GIESSEREI, 08/2019.
  • R. Schleser, T. Ihn, E. Ruh, K. Ensslin, Michael Tews, D. Pfannkuche, D.C. Driscoll, A.C. Gossard: Cotunneling-Mediated Transport through Excited States in the Coulomb-Blockade Regime. PRL 94, 206805 (2005)
  • Michael Tews: Electronic structure and transport properties of quantum dots. Annalen der Physik, Vol. 13, Issue 5, Pages 249-304 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, B. Wunsch, Michael Tews, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Inelastic Light Scattering on Few-Electron Quantum-Dot Atoms. Physica E Vol. 22, Pages 478-481 (2004)
  • T. Brocke, M.-T. Bootsmann, Michael Tews, B. Wunsch, D. Pfannkuche, Ch. Heyn, W. Hansen, D. Heitmann, and C. Schüller: Spectroscopy of Few-Electron Collective Excitations in Charge-Tunable Artifical Atoms. PRL 91, 257401 (2003)
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Mapping of few-electron wave-functions in semiconductor nanocrystals - evidence of  exchange interaction. Proceedings of 26th International Conference on the Physics of Semiconductors, Edinburgh, 2002
  • Michael Tews and D. Pfannkuche: Stark effect in colloidal indium arsenide nanocrystal quantum dots: Consequences for wave-function mapping experiments. PRB 65, 073307 (2001)
  • Michael Tews and W. F. Perger: Standalone Relativistic Continuum Wavefunction Solver. CPC 141, No. 1, Pages 205-216 (2001)

Patente und Erfindungen

  • Patentanmeldung DE102020200214A1,WO2021140052A1: Konfokale Messvorrichtung zur 3D-Vermessung einer Objektoberfläche. Angemeldet am 9. Januar 2020, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Korbinian Prause, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102018216458A1,EP3857211A1,WO2020064856A1: Verfahren zur Oberflächenaufahme eines rotierenden Körpers. Angemeldet am 25. September 2019, Anmelder: Hochschule für Angewandte Wissenschaften Kempten, Erfinder: Maximilian Rehm, Michael Beck, Christian Donhauser, Michael Layh, Bernd Pinzer, Christian Vogelei
  • Patentanmeldung EP3655175A1,US2021086250A1,WO2019015887A1: Method for operating a processing installation with a moveable punch. Angemeldet am 18. Juli 2017, Anmelder: Christian Donhauser, Erfinder: Maximilian Lorenz, Matthias Menzl, Michael Layh, Christian Donhauser, Bernd Pinzer
  • Patentanmeldung  DE102016203754A1: Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Angemeldet am 8. März 2016, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH , Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Hans-Jürgen Mann, Toralf Gruner, Martin Endres, Jens Timo Neumann
  • Patentanmeldung US2014240686A1, US9658533B2: Arrangement of a mirror. Angemeldet am 15. November 2011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH  , Erfinder: Johannes Ruoff, Heiko Feldmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2012242968A1, US9176390B2: METHOD FOR ADJUSTING AN ILLUMINATION SYSTEM OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY. Angemeldet am 22. März 20011, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther
  • Patentanmeldung WO2012076335A1: METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM. Angemeldet am 9. Dezember 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Thomas Korb, Christian Hettich, Michael Layh, Ulrich Wegmann, Karl-Heinz Schuster, Matthias Manger
  • Patentanmeldung US2013176546A1: Illumination optical unit with a movable filter element. Angemeldet am 23. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung WO2012028303A1: OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 01. November 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hans-Jürgen Mann, Ulrich Löring, Michael Layh, Johannes Ruoff
  • Patentanmeldung US2012050703A1, US9007559B2: EUV COLLECTOR. Angemeldet am 31.08.2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: , Michael Layh, Udo Dinger
  • Patentanmeldung WO2011157601A2, WO2011157601A3: ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE. Angemeldet am 15. Juni 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh,
  • Patentanmeldung US10114293B2, US2013038850A1: ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS. Angemeldet am 22. Februar 2010, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Heike Feldmann, Erik Sohmen, Joachim Stühler, Oswald Gromer, Ulrich Müller, Michael Layh, Markus Schwab
  • Patentanmeldung DE102009045491A1: Beleuchungsoptik. Angemeldet am 8. Oktober 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle
  • Patentanmeldung US2012153189A1: OPTICAL SYSTEM FOR GENERATING A LIGHT BEAM FOR TREATING A SUBSTRATE. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Johannes Wangler, Michael Layh, Markus Zenzinger, Holger Münz
  • Patentanmeldung DE102009037113A1: Verfahren und Vorrichtung zum Unterdrücken von Interferenzerscheinungen und Vorrichtung zum flächigen Aufschmelzen von Schichten. Angemeldet am 31. Juli 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hubert Holderer,Torsten Steinbruck, Michael Layh, Johannes Wangler, Holger Münz
  • Patentanmeldung WO2010149436A1: ILLUMINATION OPTICAL UNIT WITH A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT COMPRISING A MEASURING DEVICE. Angemeldet am 23. Juni 2009, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Frank Melzer, Adrian Staicu, Jürgen Baier, Bernd Warm, Markus Knüfermann, Michael Layh
  • Patentanmeldung US2011177463A1,US9304400B2: ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY. Angemeldet am 30. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Michael Layh, Ralf Stützle, Damina Fiolka, Martin Endres, Hogler Weigand  
  • Patentanmeldung DE102009025656A1: Projektionsoptik zur Verwendung in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Blende. Angemeldet am 17. September 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Martin Endres, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102009025655A1: Optische Komponente zum Einsatz in einem Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie. Angemeldet am 27. August 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Hogler Weigand, Michael Layh, Martin Endres, Ralf Stützle, Christian Laubis, Sebastian Dörn, Michael Ricker 
  • Patentanmeldung DE102008035320A1, US2011102758A1, US8537335B2, DE102008023763A1: Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Beleuchtungssystem sowie Fourieroptiksystem. Angemeldet am 25. Juli 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh, Markus Degünther, Artur Högele
  • Patentanmeldung US2011096317A1, US9310692B2: COMPONENT FOR SETTING A SCAN-INTEGRATED ILLUMINATION ENERGY IN AN OBJECT PLANE OF A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 5. Mai 2008, Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Erfinder: Ralf Stützle, Martin Endres, Jens Ossmann, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009080279A1: MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Layh, Markus Degünther, Michael Patra, Johannes Wangler,Manfred Maul, Damian Fiolka, Gundula Weiss   
  • Patentanmeldung WO2009080231A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 21. Dezember 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Erich Schubert, Alexander Kohl, Gerhard Ziegler, Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102007055443A1, DE102007055443B4: Stabmischsystem und Verfahren hierzu zur pupillenerhaltenden Feldhomogenisierung in einem Beleichtungssystem. Angemeldet am 20. November 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG Erfinder: Markus Schwab, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2009026947A1: ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 30. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung DE102008040742A1: Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung. Angemeldet am 2. August 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Patra, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul, Damian Fiolka 
  • Patentanmeldung US2014233006A1, US9019475B2, CN101636696A, CN101636696B: METHOD AND DEVICE FOR MONITORING MULTIPLE MIRROR ARRAYS IN AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 6. Februar 2007, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Stefan Xalter, Patrin Kwan Yim-Bun, Manfred Maul, Johannes Eisenmenger, Jan Horn, Markus Degünther, Florian Bach, Michael Patra, Damian Fiolka, Andreas Major, Johannes Wangler, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2008061681A2, WO2008061681A3, DE102007055408A1: Beleuchtungsoptik für die Projektions-Mikrolithografie sowie Mess- und Überwachungsverfahren für eine derartige Beleuchtungsoptik. Angemeldet am 21. November 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul
  • Patentanmeldung DE102006042452A1: Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh
  • Patentanmeldung WO2007093433A1, CN101421674A, CN101421674B: BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM DERARTIGEN BELEUCHTUNGSSYSTEM. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Markus Degünther, Michael Layh, Michael Gerhard, Bruno Thome, Wolfgang Singer
  • Patentanmeldung US2011083542A1, US8520307B2: OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS. Angemeldet am 17. Februar 2006, Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Erfinder: Oliver Wolf, Heiko Siekmann, Eva Kachbrenner, Siegfried Rennon, Johannes Wangler, Andre Bresan, Michael Gerhard, Nils Haverkamp, Axel Scholz, Ralf Scharnweber, Michael Layh, Stefan Burkart

Zurück